Mittuniversitetet

miun.sePublikationer
Driftstörningar
Det förekommer återkommande driftstörningar på några av sök-portalerna på grund av hög belastning. Vi arbetar på att lösa problemet, ni kan tillfälligt mötas av ett felmeddelande.
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
A study of band to band tunneling with application to high-field transport in hexagonal SiC polytypes
Solid State Electronics, Dept. of Electronics, Royal Institute of Technology, SE-16440 Kista, Sweden.
Mittuniversitetet, Fakulteten för naturvetenskap, teknik och medier, Institutionen för informationsteknologi och medier.ORCID-id: 0000-0002-3790-0729
Mittuniversitetet, Fakulteten för naturvetenskap, teknik och medier, Institutionen för informationsteknologi och medier.
2001 (Engelska)Ingår i: 3rd European Conference on Silicon Carbide and Related Materials KLOSTER BANZ, GERMANY, SEP, 2000, 2001, s. 487-490Konferensbidrag, Publicerat paper (Refereegranskat)
Abstract [en]

The band structure of hexagonal SiC polytypes has regions in the k-space where two or more energy bands are very close to each other. Tunneling of electrons (or holes) between bands due to a high electric field is one of the processes that may allow the electron to jump between energy bands. It is important to consider this effect in order to understand high-field transport properties in these polytypes. In this work we have used the two-band k·p approximation [1] to calculate the time-dependent tunneling probability for electron transitions between two bands using the approach of Krieger and Iafrate (KI) [2]. Electric field strengths between 0.1-4 MV/cm have been used to study the effect of tunneling. Drift times in the order of 10 fs have been considered, which is representative for the time between scattering events. We have applied the k·p approximation to different points in the Brillouin zone of 4H-SiC and proved that there is considerable tunneling between bands under realistic electric field strengths and scattering times.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2001. s. 487-490
Serie
Materials science forum, ISSN 0255-5476 ; 353-3
Nyckelord [en]
Band to band tunneling; High electric fields; High field transport; Polytypes; Time dependent tunneling probability
Nationell ämneskategori
Naturvetenskap
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:miun:diva-5840ISI: 000168535200119Scopus ID: 4243853664Lokalt ID: 3623ISBN: 0-87849-873-7 (tryckt)OAI: oai:DiVA.org:miun-5840DiVA, id: diva2:30873
Konferens
3rd European Conference on Silicon Carbide and Related Materials;Kloster Banz, Ger;Code45058
Tillgänglig från: 2008-09-30 Skapad: 2008-09-30 Senast uppdaterad: 2025-09-25Bibliografiskt granskad

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Scopus

Person

Nilsson, Hans-ErikLindefelt, Ulf

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Nilsson, Hans-ErikLindefelt, Ulf
Av organisationen
Institutionen för informationsteknologi och medier
Naturvetenskap

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

isbn
urn-nbn

Altmetricpoäng

isbn
urn-nbn
Totalt: 419 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf