miun.sePublikationer
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Patterning of Reactively Sputteres Tantalum Pentoxide, a High Epsilon Material, by Plasma Etching
Uppsala universitet, Institutionen för materialvetenskap.
Uppsala universitet, Institutionen för materialvetenskap.
Uppsala universitet, Institutionen för materialvetenskap.
Uppsala universitet, Institutionen för materialvetenskap.ORCID-id: 0000-0003-2352-9006
Visa övriga samt affilieringar
1998 (Engelska)Ingår i: The American Vacuum Society 45th National Symposium in Baltimore, 1998Konferensbidrag (Refereegranskat)
Ort, förlag, år, upplaga, sidor
1998.
Nationell ämneskategori
Annan elektroteknik och elektronik
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:miun:diva-31588OAI: oai:DiVA.org:miun-31588DiVA, id: diva2:1140963
Konferens
The American Vacuum Society 45th National Symposium in Baltimore
Tillgänglig från: 2007-03-01 Skapad: 2017-09-13 Senast uppdaterad: 2017-09-13Bibliografiskt granskad

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Personposter BETA

Hedlund, Christer

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Hedlund, Christer
Annan elektroteknik och elektronik

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetricpoäng

urn-nbn
Totalt: 176 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf