miun.sePublikasjoner
Endre søk
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Analysis and Simulation of Mask Erosion During Etching
Uppsala universitet, Institutionen för materialvetenskap.
Uppsala universitet, Institutionen för materialvetenskap.
Uppsala universitet, Institutionen för materialvetenskap.
Uppsala universitet, Institutionen för materialvetenskap.ORCID-id: 0000-0003-2352-9006
Vise andre og tillknytning
1999 (engelsk)Inngår i: American Vacuum Society 46th National Symposium, Seattle, USA, 1999Konferansepaper (Fagfellevurdert)
sted, utgiver, år, opplag, sider
1999.
HSV kategori
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:miun:diva-31611OAI: oai:DiVA.org:miun-31611DiVA, id: diva2:1140921
Konferanse
American Vacuum Society 46th National Symposium, Seattle, USA
Tilgjengelig fra: 2007-03-01 Laget: 2017-09-13 Sist oppdatert: 2017-09-13bibliografisk kontrollert

Open Access i DiVA

Fulltekst mangler i DiVA

Personposter BETA

Hedlund, Christer

Søk i DiVA

Av forfatter/redaktør
Hedlund, Christer

Søk utenfor DiVA

GoogleGoogle Scholar

urn-nbn

Altmetric

urn-nbn
Totalt: 177 treff
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf